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GD-Profiler 2是一款可進行超快鍍層分析的理想工具,適合于導體(和/或)非導體復合鍍層的分析。可分析70多種元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。
GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度,深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。此外,還采用了多項專利技術,如高動態檢測器(HDD)可測試ppm-100%的濃度范圍,專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應用領域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導體材料、LED晶片、硬盤、有機鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。
技術參數
1、射頻發生器-標準配置、復合D級標準、穩定性高、濺射束斑更為平坦、等離子體穩定時間更短,表面信息無任何失真。
2、脈沖工作模式既可以分析常規的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有更大的光通量,因而擁有光效率和靈敏度。
5、高動態檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm含量的元素。動態范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。
8、HORIBA單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實現固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標準。
*僅提供概要性產品信息,這些信息不得構成任何訂單或合同的一部分或視為與相關產品或服務有關的陳述,本公司保留更改任何產品信息或服務的規格、設計或供應條款的權利
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